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제품 상세 정보:
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| 차원: | 5 Ｘ 10 mm2 | 두께: | 350 ±25um |
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| TTV: | ≤ 10 um | 활: | - 10 um ≤ 활 ≤ 10 um |
| 대형 결함밀도: | 0cm⁻² | 상품 이름: | GaN 에피택셜 웨이퍼 |
| 강조하다: | 단결정 반도체 웨이퍼,TTV 10um 에피 웨이퍼,질화 갈륨 반도체 웨이퍼 |
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5*10.5mm2M-면 도핑되지 않은 n형 독립형 GaN 단결정 기판 비저항 < 0.1 Ω·cm 전력 장치/레이저 웨이퍼
개요
GaN 기판은 손상이 없고 매우 평평하며(Rms < 0.2 nm) 표면 방향이 제어되고 원자 단계 표면이 제어됩니다.에피택셜 성장에 적합한 표면 품질을 달성했습니다.
레이저 다이오드: 보라색 LD, 파란색 LD 및 녹색 LD
전력전자기기, 고주파전자기기
| 중 에프에이스 에프리-성그리고나Ng GㅏN 보결성라티이자형에스 | ||||
| 안건 |
GaN-FS-MUS
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GaN-FS-MNS
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GaN-FS-M-SI-S |
비고: 앞면과 뒷면을 구별하기 위해 원호 각도(R < 2mm)를 사용합니다. |
| 치수 | 5×10mm2 | |||
| 두께 | 350 ±25µm | |||
| 정위 |
M 평면(1-100) A축 방향의 오프 각도 0 ±0.5° M 평면(1- 100) C축 방향 오프 각도 - 1 ±0.2° |
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| 전도 유형 | N형 | N형 | 반절연 | |
| 비저항(300K) | < 0.1Ω·cm | < 0.05Ω·cm | > 106Ω·cm | |
| TTV | ≤ 10µm | |||
| 절하다 | - 10µm ≤ BOW ≤ 10µm | |||
| 전면 표면 거칠기 |
< 0.2nm(광택); 또는 < 0.3 nm(에피택시를 위한 연마 및 표면 처리) |
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| 뒷면 거칠기 |
0.5~1.5㎛ 옵션: 1~3 nm(미세 접지);< 0.2nm(광택) |
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| 전위 밀도 | 1x10부터53 x 106센티미터-2 | |||
| 매크로 결함 밀도 | 0cm-2 | |||
| 사용 가능한 영역 | > 90%(가장자리 제외) | |||
| 패키지 | 클래스 100 클린룸 환경, 6개의 PCS 컨테이너, 질소 분위기에서 포장 | |||
부록: 미스 컷 각도 다이어그램
δ이면1= 0 ±0.5도이면 A축을 향한 M 평면(1-100) 오프 각도는 0 ±0.5도입니다.
δ이면2= - 1 ±0.2도이면 M 평면(1-100)이 C축 방향으로 벗어난 각도는 - 1 ±0.2도입니다.
회사 소개
우리는 전자, 광학, 광전자 및 기타 여러 분야에서 널리 사용되는 웨이퍼, 기판 및 맞춤형 광학 유리 부품으로 다양한 재료를 가공하는 것을 전문으로 합니다.우리는 또한 많은 국내 및 해외 대학, 연구 기관 및 기업과 긴밀히 협력하여 R&D 프로젝트를 위한 맞춤형 제품 및 서비스를 제공하고 있습니다.좋은 평판을 통해 모든 고객과 좋은 협력 관계를 유지하는 것이 우리의 비전입니다.
자주하는 질문
Q: 당신은 무역 회사입니까 아니면 제조업체입니까?
우리는 공장입니다.
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담당자: Xiwen Bai (Ciel)
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